Нужна информация по фотополимеризующейся композиции ФПК-ТЩ-2, а именно: как с ней работать, время экспонирования, может ссылки на литературу, где об этом написано. Хочу использовать ее для изготовления плат (вместо фоторезиста).Помогите, пожалуйста, кто чем может.

Фоторезист негативный. Засвечивается через трафарет УФ лампой.
Проявление р-ром NaOH 7-10 г/литр.

Спасибо за информацию. А можно подробнее о засветке: приблизительное время экспозиции, а то я пробовал освещать УФ, но эффекта не увидел. У меня этот фоторезист в виде пасты, я его разбавлял растворителем для нанесения пульверизатором. Это допустимо? Вообще, чем он разбавляется?

Применяемый растворитель большого значения не имеет. Желательно использовать моно растворители, а не смеси. Номерные р-тели - смеси.
Экспозиция 2-5 Дж/см^2