|
Специалист
Регистрация: 24.11.2007
Сообщений: 2,513
Репутация: 259
 |
Цитата:
Научно-исследовательскую работу по изучению возможности разработки установки безмасочной рентгеновской нанолитографии с длиной волны 13.5*нм на базе синхротронного и/или плазменного источника выполняют ученые*Центра коллективного пользования «Микросистемная техника и электронная компонентная база»*МИЭТ. В случае успеха исследования в России появится уникальное оборудование для производства микросхем топологического уровня 28*нм и меньше.
|
||
|
Оценка
|
|
Специалист
Регистрация: 22.09.2010
Адрес: г. Донецк
Сообщений: 868
Репутация: 380
|
Вот интересная статья с картинками. Хотя всё, что публикуется на эту тему, в частности на Хабре, несёт пессимистический прогноз. Ну кроме публикаций Максима Горшенина из МЦСТ в Telegram и VK :-)
Фотолитография с пятнадцатилетним опозданием: https://stimul.online/articles/scien...im-opozdaniem/
__________________
Atmel, STM32, ESP32, RTOS, OS-less, C, C++, C#, Visual Studio, IAR, Altium, Micro-Cap, Maple, MatLab, etc.
Последний раз редактировалось Moderator Robot; 12.05.2022 в 12:51.
|
||
|
Оценка
|
|
Инженеры КОМПЭЛ провели сравнительное тестирование аккумуляторов EVE и Samsung популярного для бытовых и индустриальных применений типоразмера 18650. Для теста были выбраны аккумуляторы литий-никельмарганцевой системы: по два образца одного наименования каждого производителя – и протестированы на двух значениях тока разряда: 0,5 А и 2,5 А. Испытания проводились в нормальных условиях на электронной нагрузке EBD-USB от ZKEtech, а зарядка осуществлялась от лабораторного источника питания в режиме CC+CV в соответствии с рекомендациями в даташите на определенную модель.
 |
| Ответ |
| Опции темы | Поиск в этой теме |
| Оценка этой теме | |
|
|
| Обратная связь РадиоЛоцман Вверх |
Версия для печати
Отправить по электронной почте
