Цитата:

Компания Lace Lithography AS (Берген, Норвегия) разрабатывает форму литографии, в которой атомы, бомбардирующие поверхность, позволяют создавать элементы с разрешением, превосходящим возможности экстремальной ультрафиолетовой литографии. То, что Lace Lithography называет BEUV, теоретически может обеспечить более тонкие характеристики, поддерживая дальнейшую миниатюризацию транзисторов и расширяя действие закона Мура.

Подробнее: Lace Lithography использует атомы, чтобы выйти за рамки EUV

в чём принципиальная новизна ? Уже много лет как пробуют( и даже пробные установки собирают ) на разных частицах. Результат так себе - или очень медленно или - всплывает много трудноустранимых нюансов