Клеммные колодки Keen Side
РадиоЛоцман - Все об электронике

Lace Lithography использует атомы, чтобы выйти за рамки EUV

Компания Lace Lithography AS (Берген, Норвегия) разрабатывает форму литографии, в которой атомы, бомбардирующие поверхность, позволяют создавать элементы с разрешением, превосходящим возможности экстремальной ультрафиолетовой литографии.

Lace Lithography использует атомы, чтобы выйти за рамки EUV

То, что Lace Lithography называет BEUV, теоретически может обеспечить более тонкие характеристики, поддерживая дальнейшую миниатюризацию транзисторов и расширяя действие закона Мура.

Компания была основана в июле 2023 года генеральным директором профессором Бодилом Хольстом (Bodil Holst) из Университета Бергена и техническим директором Адриа Сальвадором Палау (Adria Salvador Palau), который получил докторскую степень в Университете Бергена, но сейчас работает в Барселоне, Испания.

В обычных системах литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) для создания рисунков на пластинах используется свет с длиной волны 13.5 нм, проходящий через ряд зеркал и масок. Атомная литография позволяет осуществлять прямое безмасочное формирование рисунка с разрешением меньшим, чем это возможно при использовании ограниченных длиной волны систем EUV.

«Используя атомы вместо света, мы предоставляем производителям чипов возможности, на 15 лет опережающие нынешние технологии, более экономичные и со значительно меньшим энергопотреблением», – утверждает компания на своем сайте.

Сальвадор Палау и профессор Хольст были соавторами статьи, опубликованной в Physics Review A под названием «Точный перенос рисунка на поверхность с помощью нейтральных атомов гелия». В статье представлены детали реализации и работы гелиевого стерео микроскопа.

FabouLACE – это финансируемый Европейским союзом проект по разработке технологии безмасочной атомной литографии с бюджетом 2.5 млн евро, предоставленным Европейским советом по инновациям. Проект стартовал 1 декабря 2023 года и продлится до 30 ноября 2026 года.

В FabouLACE используются метастабильные атомы и маски на основе дисперсионных сил, позволяющие создавать элементы размером 2 нм. По данным Европейской комиссии, компания Lace Lithography намерена вывести технологию на рынок к 2031 году. В это время эффективность технологии будет отслеживаться и проверяться исследовательским институтом IMEC. Предыдущим европейским исследовательским проектом был NanoLACE, который завершился 31 декабря 2024 года. Этот проект стартовал в 2019 году и получил 3.36 млн евро в рамках бюджета в 3.65 млн евро.

В июле 2023 года компания Lace Lithography привлекла первоначальное финансирование в размере около 450,000 евро при поддержке Runa Capital, Vsquared Ventures, Future Ventures, Европейского совета по инновациям, Innovation Norway и Норвежского исследовательского совета.

На данный момент компания собрала команду из более чем 20 физиков, инженеров и операторов.

eeNews Europe

Перевод: AlexAAN по заказу РадиоЛоцман

На английском языке: Lace Lithography uses atoms to go beyond EUVL

ТМ Электроникс. Электронные компоненты и приборы. Скидки, кэшбэк и бесплатная доставка
Для комментирования материалов с сайта и получения полного доступа к нашему форуму Вам необходимо зарегистрироваться.
Имя
Фрагменты обсуждения:Полный вариант обсуждения »
  • в чём принципиальная новизна ? Уже много лет как пробуют( и даже пробные установки собирают ) на разных частицах. Результат так себе - или очень медленно или - всплывает много трудноустранимых нюансов