Журнал РАДИОЛОЦМАН, январь 2012
Dwight Byrd и Thomas Kugelstadt, Texas Instruments
EDN
Существуют различные стандартные методы проверки устойчивости аппаратуры к электростатическому разряду. А какой метод используете вы при испытаниях своей конструкции…
Электростатический разряд (ЭСР) – внезапное возникновение кратковременного тока, протекающего между двумя объектами с разными электрическими потенциалами. Он вызывает повреждение оборудования, приводя к производственным потерям, измеряемым миллиардами долларов ежегодно. Производитель любой электроники, от портативной потребительской до систем управления промышленными процессами и приложений военной и космической сфер, должен учитывать влияние ЭСР при проектировании своего оборудования. Существует множество стандартов проверки на устойчивость к ЭСР, удовлетворяющих многообразным техническим требованиям различных сегментов электронной индустрии.
Чтобы помочь выбрать нужный метод испытаний для вашего проекта, необходимо разобраться в основных стандартах проверки на устойчивость к ЭСР и различиях между проверкой на уровне устройства и проверкой на уровне системы. Защита от ЭСР включает в себя набор схем, основанных преимущественно на диодных матрицах, ограничительных диодах и стабилитронах. Независимо от того, какая схема будет выбрана, вы должны провести заключительную проверку на электромагнитную совместимость и проверку работоспособности самой схемы защиты.
Модель человеческого тела (HBM)
Метод испытаний на уровне устройства, основанный на модели человечекого тела (human-body-model – HBM) распространен наиболее широко. Он используется для оценки восприимчивости к ЭСР электронного компонента. Тест воспроизводит электрический разряд между человеком и электронным компонентом, который может произойти при прикосновении к устройству, если человек накопил остаточный заряд, например, при ходьбе в носках по ковру. Отказы микросхем при таком тестировании проявляются в пробое переходов, проникновении металла, расплавлении металлических слоев, проколе проводников и повреждении оксидных слоев.
Для тестирования конденсатор емкостью 100 пФ заряжают от источника высокого напряжения через резистор 1 МОм. После того, как конденсатор полностью зарядится, с помощью ключа его переключает от высоковольтного источника с последовательным резистором на схему с резистором 1.5 кОм и проверяемым устройством. Таким образом, напряжение будет полностью разряжено через резистор и устройство (Рисунок 1). Значение высокого напряжения, в зависимости от уровня теста, может варьироваться в пределах от 0.5 до 15 кВ.
![]() |
|
Рисунок 1. | Тест уровня устройства HBM является наиболее распространенной моделью при проверке устойчивости к ЭСР. Его используют для оценки влияния ЭСР на повреждения электронного компонента. |
На Рисунке 2 показана типичная осциллограмма с начальным броском тока порядка 1.5 А, и экспоненциальным разрядом конденсатора, ток через который асимптотически достигает 0 А примерно за 500 нс. При типичном тесте HBM одиночным разрядом на проверяемом устройстве может выделяться максимальная мощность до 22.5 кВт. Помните, что мощность равна произведению тока на напряжение.
![]() |
|
Рисунок 2. | Типичная осциллограмма с начальным броском тока порядка 1.5 А, и экспоненциальным разрядом конденсатора, ток через который асимптотически достигает 0 А примерно за 500 нс. |
Машинная модель (MM)
Тест уровня устройства, основанный на машиной модели (machine-model – MM), появившийся в 1990-х годах, сегодня распространен меньше, чем HBM. В связи с ростам производства продукции в 1990-х начали приобретать все большую популярность автоматизированные промышленные комплексы. Эти машины накапливали электрический заряд после включения и при соприкосновении разряжались на электронные компоненты. Так MM тестирование стало моделью для проверки на устойчивость к ЭСР, вызываемым механическими устройствами. Эффекты отказов здесь те же самые, что и при тестах HBM, то есть повреждение соединений, расплав металлических слоев, повреждение оксидной изоляции.
В данной процедуре проверки источник высокого напряжения соединяется последовательно с резистором и конденсатором емкостью 200 пФ. После полного заряда конденсатора ключ подключает его к проверяемому устройству через резистор и индуктивность 0.5 мкГн. Заряд конденсатора через индуктивность рассеется на устройстве (Рисунок 3). Напряжение высоковольтного источника может быть различным, но обычно выбирается из диапазона от 50 до 400 В.
![]() |
|
Рисунок 3. | В тесте MM источник высокого напряжения соединяется последовательно с резистором и конденсатором емкостью 200 пФ. |
Если посмотреть на осциллограмму тока (Рисунок 4), можно увидеть, что в RLC цепи возникает переменный ток, достигающий в пиках примерно ±3 А, что почти в четыре раза превышает пиковый ток в тесте HBM. Кроме того, как видно из Рисунка 4, спад тока происходит значительно медленнее: время, за которое ток затухает до нуля равно примерно 900 нс. Максимальная мощность, выделяющаяся в тесте MM, приближается к 1.2 кВт.
![]() |
|
Рисунок 4. | Как видно из осциллограммы, в RLC цепи возникает переменный ток. |
Тест MM используется тогда, когда необходимо индивидуально испытать на соответствие стандарту каждый вывод микросхемы. Микросхема устанавливается на специальную плату, подключенную к автоматическому ЭСР тестеру. Все выводы, кроме одного, подлежащего проверке в данный момент времени, заземляются. Эта процедура повторяется для каждого вывода.
Модель заряженного устройства (CDM)
Тест уровня устройства, использующий модель заряженного устройства (charged-device-mode – CDM), имитирует ситуацию, часто возникающую в автоматизированном оборудовании, где во включенных долгое время машинах на микросхемах могут накапливаются заряды. Когда какая-нибудь часть приходит в соприкосновение с заземленным проводником, накопленный заряд разряжается. При тесте CDM проверяемая микросхема размещается на испытательной металлической поверхности обратной стороной кверху. Металлическая поверхность отделяется от микросхемы изоляционным материалом, в результате чего два объекта образуют конденсатор. Затем металлическую поверхность соединяют с источником высокого напряжения и увеличивают напряжение до уровня, требуемого для данного вида испытаний. К проверяемому выводу подносят щуп, через который происходит разряд, во время которого измеряется протекающий через «землю ток». Этот тест повторяют для каждого вывода при трех положительных и трех отрицательных импульсах. В итоге, каждый вывод должен испытать шесть разрядов (Рисунок 5).
![]() |
|
Рисунок 5. | Металлическая поверхность отделяется от микросхемы изоляционным материалом, в результате чего два объекта образуют конденсатор. Затем металлическую поверхность соединяют с источником высокого напряжения и увеличивают напряжение до уровня, требуемого для данного вида испытаний. |
Как видно из Рисунка 6, разряд длится не более 2 нс, что делает тест CDM сложным в реализации и моделировании. В результате ток нарастает до 5…6 А, разряжаясь менее чем за 1 нс. Участок спада тока имеет протяженность порядка 5 нс, отчего провести на нем измерения непросто. Возникающие неисправности, наблюдаемые при CDM тестах, типичны для кратковременных воздействий. Это пробой оксидного слоя затвора, захват заряда и пробой p-n перехода. На Рисунке 6 показана форма тока при тесте CDM.
![]() |
|
Рисунок 6. | В тесте CDM разряд длится не более 2 нс, что делает этот тест сложным в реализации и моделировании. Ток достигает в импульсе 5…6 А. |
Тесты HBM, ММ и CDM являются наиболее распространенными процедурами проверки электронных компонентов на уровне устройства. Таблица 1 отражает их сходства и различия.
Таблица 1. Сравнение тестов HBM, MM и CDM | |||
Модель
|
HBM
|
ММ
|
CDM
|
Уровни напряжения
|
2, 4, 8 и 15 кВ
|
100, 150 и 200 В
|
250, 500, 750 и 1000 В
|
Амплитуда тока, А
|
1.5
|
±3
|
5 … 6
|
Ширина импульса, нс
|
Примерно 150
|
Примерно 80
|
Примерно 1
|
Время нарастания
|
2 … 10 нс
|
Примерно 1 нс
|
Менее 400 пс
|
Характерные
повреждения |
Пробой p-n переходов,
проникновение металла, расплавление металлических проводников, прокол проводников и повреждение подзатворного диэлектрика |
Пробой p-n переходов,
расплавление металлических проводников и проколы подзатворного диэлектрика |
Проколы подзатворного
диэлектрика, захват заряда и пробой p-n переходов |